先進製程搭配先進封裝 引領新世代高效能晶片
AI正在重塑全球各行各業,持續推動自動化、機器學習和決策流程的進步,帶動市場對運算能力、可擴展性和能源效率的更高要求,已滿足雲端資料中心到邊緣運算等各種應用,驅動半導體產業積極發展先進製程技術。
根據國際半導體產業協會(SEMI)公布「300mm Fab Outlook(300mm晶圓廠展望報告)」報告中指出,隨著生成式AI應用範圍持續擴大,晶片製造大廠積極擴大先進製程產能(7奈米及以下),預估將從2024年每月85萬片攀升至2028年每月140萬片,年複合成長率將達到14%,短短4年間成長超過六成。
身為全球先進晶片製造龍頭的台積電,為延續摩爾定律持續投入先進製造技術,如A14製程技術正是該公司下一世代先進邏輯製程技術,透過尺寸微縮實現全製程節點的效能、功耗及面積的進步。除此之外,A14製程技術亦有望透過增進裝置端AI技術來強化智慧型手機功能,預定2028年將正式量產。
台積電處長陳健博士指出,A14製程與N2製程相比,在相同功耗下可提升達15%速度;或在相同速度下降低達30%的功率,同時邏輯密度增加超過20%。
此外,結合台積電在奈米電晶體方面的設計技術、優化經驗,進一步將TSMC NanoFlex架構發展為NanoFlexPro,實現更好的效能、能源效率和設計靈活性,滿足不同IC設計公司的研發需求。
在投入先進製程之外,台積電也積極布局先進封裝技術研發,並推出3DFabric解決方案。這項技術將多項3D矽堆疊與先進封裝技術整合,成為一套全面性的系統級封裝平台,能與先進製程形成互補,協助客戶展現創新能力。
3DFabric 涵蓋CoWoS(Chip on Wafer on Substrate)、InFO(Integrated Fan-Out)、TSMC-SoIC(System on Integrated Chips)等三大技術,透過同質與異質晶片的整合,可滿足不同應用情境對高效能、運算密度、能源效率、低延遲及系統整合度等多方面的需求。
為滿足AI應用對高效能晶片的強烈需求,台積電正積極開發新一代CoWoS技術研發,便能將GPU晶片與高頻寬記憶體(HBM)整合,預計2027年推出9.5倍光罩尺寸的CoWoS,可封裝12個以上HBM晶片。至於下一代系統級晶圓(System-on-Wafer;SoW)封裝技術,也同樣預定於2027年量產。
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