亞泰致力研磨液設備智慧化 從問題本質出發創造半導體製程新價值
在先進製程推動下,半導體設備廠正面臨「良率極大化、成本精細化、永續責任化」三重壓力,如何在兼顧效率與ESG的前提下提出具體可落地的解決方案,已成為產業共同課題。劉美鳳董事長表示,亞泰半導體設備以「從本質出發」的工程哲學,聚焦CMP(Chemical Mechanical Planarization/Polishing;化學機械平坦化)相關物料供應與入料自動化兩大主軸,在成本、良率、ESG三大面向達到最佳化,2025年SEMICON Taiwan展出的一系列產品,就是此思維的具體成果。
亞泰專注於化學液與研磨液供應設備研發,確保製程用液的精準與穩定。技術長徐宏信指出,CMP是晶圓製程中影響良率的關鍵步驟,此環節使用的研磨液由化學成分與顆粒組成,其配比與新鮮度至為重要。
隨著製程演進,需求走向兩端,熟成型需靜置數小時並在時效內用盡,瞬時型則必須在十數秒內混合並立即使用,稍有延誤即失效,這使得研磨液管理設備成為製程穩定性的關鍵保障。
現在半導體製程的良率要求,已將研磨液管理推升至關鍵等級,唯有在配比精準、狀態穩定與新鮮度三方面同時到位,才能確保平坦度、去除率與速率一致。
技術長徐宏信強調,亞泰以「從本質出發」為核心哲學,先釐清問題根源,再以最有效的方式解決,這套思維不僅是企業的工程準則,更是驅動亞泰產品創新的底層邏輯。以原料桶抽料設計為例,一般在面對原料桶殘液問題時,多仰賴額外的抽吸裝置或乾脆更換桶體,但前者往往增加設備複雜度與成本,後者則造成原料浪費與廢桶處理負擔。
亞泰則從根本出發,以傾斜抽料設計簡化流程,讓原料能自然集中至抽吸點,成功將殘液量從約10公升降低至4-5公升,同時保持攪拌均勻度,此舉不僅節省昂貴化學原料,也減少廢液處理成本與人員暴露風險。
此一「從本質出發」的設計哲學,不僅體現在榮獲2024台灣精品獎的iChemLid全自動開蓋及輸送化學液系統上,更延伸到亞泰對高科技廠房營運價值的整體思考。iChemLid系統透過「抽料」與「混料/輔助攪拌」功能的整合,在原料桶階段就處理均勻性與沉降問題,藉由抽送過程中的同步攪拌,確保下游配比穩定性。
系統可實現化學桶移載、旋轉、對位、開蓋/復蓋、抽送至上位輸送系統的全流程自動化與資料化管理,並與SCADA/FMCS系統整合,建立完整的運轉履歷與工安紀錄,滿足現代化工廠對於製程追溯性的要求,為半導體廠打造完整且高效率的化學液自動化解決方案,並帶來良率提升、成本降低、ESG減廢與資源再用、自動化擴展兼容性等四大效益。
在新興亞洲市場布局方面,亞泰以在地化團隊提供客戶即時且完善的服務,將推動的「新亞泰」策略,則是結合亞泰既有專業技術與當地材料、供應鏈,藉此降低斷鏈風險並維持服務能量。
面對快速演變的半導體市場變化,技術長徐宏信表示亞泰積極投入研磨液設備自動化,目前已取得多項專利,並同步推進樣品製作。未來將持續以「從本質出發」的核心哲學,結合技術創新與永續價值,投入CMP研磨液設備、自動化系統的研發,並逐步拓展至更多製程節點,協助客戶在效率、成本與ESG三方面取得平衡,成為高科技產業值得信賴的合作夥伴。
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